自主光刻机重磅进展！清华大学有望解决卡脖子核心难题

据清华大学官网消息，2月25日，清华大学工程物理系教授唐传祥研究组与来自亥姆霍兹柏林材料与能源研究中心以及德国联邦物理技术研究院的合作团队在《自然》上发表研究论文，报告了一种新型粒子加速器光源 “稳态微聚束”（SSMB）的首个原理验证实验。唐传祥指出，基于SSMB的EUV光源有望解决自主研发光刻机中最核心的卡脖子难题。

在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。而大功率的EUV光源是EUV光刻机的核心基础。随着芯片工艺节点的不断缩小，预计对EUV光源功率的要求将不断提升，达到千瓦量级。

而基于 SSMB的EUV光源有望实现大的平均功率，并具备向更短波长扩展的潜力，为大功率EUV光源的突破提供全新的解决思路。目前，清华大学正积极支持和推动 SSMB EUV光源在国家层面的立项工作。清华 SSMB 研究组已向发改委提交项目建议书，申报 “十四五”国家重大科技基础设施。在加快攻克重要领域“卡脖子”技术的大背景下，相关的上市公司有望受到资金关注。

相关公司方面，光刻机（胶） 板块显示，

英唐智控：公司2020年度完成了对日本先锋微技术100%股权的收购事项，先锋微技术自有的生产设备中包含有日本产的光刻机设备，主要用于模拟芯片的制造。

奥普光电：公司产品可以用于光刻机的光学系统中，公司是长春光机所控股下的唯一上市公司平台，90nm光刻机曝光系统是长春光机所联合其他单位在国家专项资金的支持下开展的研发项目。